Elaboration et caractérisation physique des couches minces de TiO2 déposées par pulvérisation cathodique

• A-------------------------------------------------------------------------------------
  
• C-------------------------------------------------------------------------------------
  
• D------------------------------------------------------------------------------------
  
• J-------------------------------------------------------------------------------------
  

• Introduction générale
  
• Introduction générale
  
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.2.1 Phase rutile
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.2.2 Phase anatase
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.2.3 Phase brookite
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.3.1 Dopage et type de conductivité
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.3.2 Conductivité
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.3.3 Constante diélectrique
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.5.1 Biocompatibilité du TiO2
    
  • 1.5.2 Pigments et peintures
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.5.3 Activité photocatalytique
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.5.5 Electronique et photovoltaïque
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.5.6 Eclairage des tunnels
    
  • 1.5.7 Chauffage
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
  • 1.5.8 Autres applications
    
• Chapitre 1 : Matériau TiO2
  
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.1 Introduction
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.2 Dépôt chimique en phase vapeur (CVD : Chemical Vapor Deposition)
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.3 Evaporation thermique
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.4 Ablation laser (Pulsed Laser Deposition- PLD)
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.5 Epitaxie par jets moléculaires
    
  • 2.6 Pulvérisation cathodique
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.6.1 Principe de la pulvérisation
    
  • 2.6.1.1 La cible (target)
    
  • 2.6.1.2 Le plasma (ou bien luminescence négative)
    
  • 2.6.1.3 La gaine ou obscur de Crookes
    
  • 2.6.1.4 Fonctionnement
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.6.2 Pulvérisation DC (Direct Current)
    
  • 2.6.6.1 Le magnétron
    
  • 2.6.6.2 Pulvérisation DC pulsé
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.6.6.3 Les limites du dispositif "diode"
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.6.3 Pulvérisation RF (Radio-fréquence)
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.6.4 Pulvérisation triode
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.6.5 Pulvérisation réactif
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.6.6 Croissance cristalline
    
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
• Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique
  
  • 2.7 Conclusion
    
  • 3.1 Introduction
    
  • 3.2.1 Préparation des substrats
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.2.3 Etching
    
  • 3.2.4 Pré-pulvérisation
    
  • 3.2.5 Pulvérisation
    
  • 3.3.1 Principe de la méthode
    
  • 3.3.2 Description de l'appareillage
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.3.3 Couches élaborées sur des substrats de verre
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.3.4 Couches élaborées sur des substrats de silicium
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.4.1 Les modes de fonctionnement les plus courants
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.4.2 Dispositif utilisé
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.4.3 Couches de TiO2 élaborées sur des substrats de verre
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.4.4 Couches de TiO2 élaborées sur des substrats de silicium
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.5.1.1 Détermination de l'indice de réfraction nc
    
  • 3.5.1.2 Détermination de l'épaisseur de la couche d
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.5.1.3 Détermination du gap optique de la couche
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.5.2.2 Épaisseurs et indices de réfraction
    
  • 3.5.2.3 Coefficients d'absorption
    
  • 3.5.2.4 Transitions optiques
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.6.1 Spectroscopie d'impédance électrique
    
  • 3.6.1.1 Principe
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.6.1.2 Résultats et discussion
    
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
• Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2
  
  • 3.6.2 Type de conductivité
    
  • 3.6.2.1 Principe
    
  • 3.6.2.2 Résultats et discussion
    
  • 3.7 Conclusion
    
• Conclusion générale
  
• Conclusion générale
  
• Bibliographie