Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des
couches de TiO2
3.4.3 Couches de TiO2 élaborées sur des
substrats de verre
La figure 3.11 montre les images AFM réelles et leurs
négatifs bidimensionnels (1um x 1um) donnés par l'analyse AFM des
couches de TiO2 déposées sur des substrats de verre
chauffés à température ambiante, 100, 200 et 300 °C
d'épaisseurs variant de 114 à 183 nm. Elle rend compte de la
croissance des cristallites lors de l'échauffement des substrats. Bien
que la croissance granulaire ait lieu, elle reste modeste du fait de la
température de substrat relativement faible.
Négatif Image réelle Négatif Image
réelle
(a) (b)
Négatif Image réelle Négatif Image
réelle
(c) (d)
Fig. 3. 11 Images AFM 2D des couches de TiO2/Verre
à TS : (a) ambiante, (b) 100, (c) 200 et (d)
300°C
En effet, la figure 3.11 (a) montre une
surface lisse qui présente une grande porosité des couches
à substrats non chauffés et absence presque totale des grains, ce
qui confirme le caractère amorphe de ces couches montré par
diffraction des rayons X. Ceci est dû au fait qu'à basse
température, la mobilité des atomes déposés est
réduite et la structure se forme à partir de la
géométrie de surface du substrat et par suite la couche est
fortement influencée par la structure cristalline du substrat
amorphe.
La couche est donc assez poreuse, ce qui explique une grande
rugosité mesurée par AFM de la couche déposée
à température ambiante (voir tab 3.5). Le signe (-) devant la
valeur de la rugosité des couches à substrats non chauffés
indique que cette valeur est la différence entre la surface moyenne et
la profondeur d'un pore de la couche ce qui donne une différence
négative.
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