Etude des nano-cavités en vue de la réalisation des matériaux alternatifs à base de semi-conducteurs

• Resumé
  
• Abstract
  
• INTRODUCTION GENERALE
  
• CHAPITRE PREMIER
  
• IMPLANTATION IONIQUE ET
  
• FORMATION DES NANO-CAVITES
  
  • 1.1 L'IMPLANTATION IONIQUE PAR FAISCEAU D'IONS
    
    • 1.1.1 Définition
      
    • 1.1.2 Principe
      
    • a) Collision atomique
      
  • 1.2 L'IMPLANTATION IONIQUE PAR IMMERSION PLASMA
    
    • 1.2.1 Principe de fonctionnement
      
    • 1.2.2 Avantages et Inconvénients
      
  • 1.3 APPLICATIONS DE L'IMPLANTATION IONIQUE
    
  • 1.4 RECUIT POST-IMPLANTATION
    
  • 1.5 FORMATION DES NANO-CAVITES
    
    • 1.5.1 Précurseurs
      
    • 1.5.2 Création des nano-cavités
      
  • 1.6 CONCLUSION DU CHAPITRE
    
• CHAPITRE DEUX
  
• APPLICATIONS POTENTIELLES DES
  
• NANO-CAVITES
  
  • 2.1 PROCEDE SMART CUT
    
  • 2.2 GETTERING (PIEGEAGE D'IMPURETES)
    
    • 2.2.1 Les différentes méthodes de piégeage
      
    • 2.3 CONCLUSION DU CHAPITRE
      
• CHApiTRE TRois
  
• CROISSANCE DES
  
• NANO-CAVITES/BULLES
  
  • 3.1 CROISSANCE THERMIQUE DES NANO-CAVITES
    
    • 3.1.1 La Migration Coalescence
      
    • 3.1.2 L'Oswald Ripening (Maturation d'Oswald)
      
    • 3.1.3 Comparaison des deux mécanismes de croissance
      
  • 3.2 INTERET DE L'ETUDE DES NANO-CAVITES/BULLES
    
  • 3.3 SIMULATIONS NUMERIQUES
    
    • 3.3.1 Modèle de croissance par Oswald Ripening
      
    • 3.3.2 Modèle de croissance par Migration Coalescence
      
    • 3.3.3 Résultats de simulations et Discussions
      
• CONCLUSION GENERALE
  
• ANNEXE
  
• Bibliographie