1.6 CONCLUSION DU CHAPITRE
L'implantation ionique consiste à doper un
matériau d'une part, à l'aide d'un faisceau de dopants
ionisés avec ses atomes constituants; d'autre part à l'aide
d'immersion plasma. Ces deux techniques d'implantation présentent des
avantages et des inconvénients, chacune, trouvant son application dans
des industries.
Cependant, l'une des conséquences de l'implantation
ionique dans une matrice après recuit est la formation de
nano-cavités. Ces nano-cavités, importantes dans
l'élaboration des couches minces, permettra d'obtenir des structures SOI
par le procédé Smart Cut. Hormis ce procédé bien
connu, les nano-cavités peuvent servir à décontaminer, par
piégeage (ou gettering), les couches minces des impuretés
métalliques créées par implantation ionique avant recuit.
Cette pollution pouvant devenir un frein à l'élaboration des
nanostructures pour les cellules solaires.
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