Etude du dopage des couches minces de ZnO élaborées par spray ultrasonique

• I.4.1. Dépôts chimiques en phase vapeur :
  
• I.4.2.2. Ablation laser:
  
• I.4.2.3. L'évaporation sous vide:
  
• I.4.2.4. Spray ultrasonique :
  
• I.4.2.4.1. Principe général du procédé spray:
  
• I.4.3.4.2.Principe du procédé Spray ultrasonique :
  
• I.4.2.4.3. Sol-gel:
  
• I.8. Synthèse bibliographique des propriétés de ZnO : I.8.1. Propriétés cristallographiques :
  
• I.8.1.1. Structure cristalline :
  
• I.8.1. 2. L'énergie cristalline de cohésion
  

• II.2.2. Montage expérimental utilisé
  
• II.2.2.1. Description du rôle des éléments du montage:
  
• II.7.2.2. Dopage de type P :
  
• II.8. Les dopants du ZnO :
  
• II.8.1. Dopage n du ZnO :
  
• II.8.2. Dopage p du ZnO :
  
• III.1.1. La spectroscopie UV-visible
  
• III.1.2. Mesure de l'épaisseur:
  
• III.1.2.1. Les franges d'interférence :
  
• III.1.3.Mesure des propriétés optiques:
  
• III.2. Mesure des propriétés structurales :
  
• III.2.1. Diffraction de rayons X :
  
• III.2.2. Principe:
  
• III.2.3. Détermination des contraintes et de la taille des grains:
  
• III.2.3.1. Taille des gains
  
• III.3.1. La technique des deux pointes :
  
• IV.3. Propriétés structurales :
  
• IV.3.2.Etude des contraintes :
  
• IV.4.3. Désordre (Energie d'urbach):
  
• III.4.1. Gap optique :
  
• III.4.2. Indice de réfraction:
  
• IV.5.2.L'énergie d'activation:
  
• Résumé