Caractérisation de la réaction interfaciale entre une couche mince de tungstène et un substrat d'acier

• Introduction générale :
  
  • I.1. Définition des couches minces:
    
  • I.2.1. Généralité :
    
  • I.2.2. Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) :
    
  • I.2.3.1. Pulvérisation cathodique :
    
  • I.2.3.2. Evaporation thermique :
    
  • I.3. Mécanisme de formation d'une couche mince:
    
  • I.5. Phénomène de diffusion:
    
  • I.5.2.1. Première loi de Fick:
    
• II.4. Carbures de tungstène : propriétés et applications
  
• III.1.1.Préparation des substrats :
  
• III.3.1.2. Les conditions expérimentales :
  
• III-3-4. La micro-dureté:
  
• Conclusion générale :