II.7 caractérisation électrique
II.7.1 Méthode de la pointe chaude pour la
détermination du type de conductivité dans un semiconducteur
C'est une technique qui repose sur le principe de l'effet
thermoélectrique, elle est rapide, fiable et très utilisée
pour déterminer le type de conductivité d'un semiconducteur.
L'outillage nécessaire est simple, il consiste simplement en une source
de chaleur (fer à souder comme exemple) et un
Milliampèremètre. Le fer à souder va jouer le rôle
d'une source de chaleur pour l'électrode positive du
milliampèremètre et l'électrode négative va jouer
le rôle d'une pointe froide (figure II.14) [30]. Le
milliampèremètre va indiquer une valeur positive ou
négative qui indique le type des porteurs majoritaires ; sens positif
type n, sens négatif type p. En effet, l'application de la pointe chaude
donne de l'énergie aux électrons du semiconducteur, ce qui
crée des électrons libres, la concentration des porteurs
majoritaires alors augmente, ces derniers sous l'effet du gradient de leur
concentration diffusent de la pointe chaude (qui leur donne naissance) vers la
pointe froide. Le courant électrique qui en résulte est
bouclé à travers le milliampèremètre
extérieur. Le courant qui résulte de cette diffusion est
défini par la première loi de Fick :
Pour un SC type n :
Pour un SC type p :
Avec :
q : la charge des électrons.
n, p : nombre de porteur des électrons et des
trous respectivement.
ìn, ìp : mobilité des
électrons et trou respectivement.
E : champ électrique.
Ou le champ électrique E produit par un gradient de
température est dit par définition le pouvoir
thermoélectrique absolu (Q) suivant l'expression :
On remplace (2.18) dans les deux relations (2.16) et (2.17) :
Pour un SC type n
Et pour un SC type p
Qn, Q,, : pouvoir thermoélectrique
absolu ; Qn < 0, Q,, > 0. dT/dx : gradient
de température.
Figure II.14. Pouvoir thermoélectrique
en fonction de la température dans le silicium n et p. au-dessus de 600
°K, les échantillons deviennent intrinsèque. Les ont
été calculées et les points représentent les
mesures expérimentales [23].
Chapitre II Procédure expérimentale et
Techniques de caractérisation
Pointe froide
Pointe chaude
-V+
0
Déplacement d'électrons pour
équilibré la région
e-
SC type n
Pointe froide
Pointe chaude
-V+
0
Déplacement de trou pour
équilibré la région
p-
SC type p
Pointe froide
Pointe chaude
Zone chargée (-)
Zone
chargée (+)
-V+
Champ électrique SC type n
Pointe froide
Pointe chaude
Zone chargée (+)
Zone
chargée (-)
-V+
Champ électrique SC type p
(a) (b)
Figure II.15. Schéma de principe de
technique de la pointe chaude : (a) SC type n, (b) SC type p
L30].
II.7.2 Mesure de l'épaisseur des couches minces
métalliques par la méthode des quatre pointes
La méthode des quatre pointes est utilisée pour
la mesure de la résistivité des semi conducteurs épais ou
en couche déposée sur un isolant dans la majorité des
cas L22]. Mais, elle peut aussi être sollicitée
pour mesuré l'épaisseur de couches minces métalliques la
ou la résistivité ne varie pas beaucoup. Cette technique a deux
variantes :
v' La méthode des quatre pointes alignées (ou de
Wenner).
v' La méthode des quatre pointes carrées (ou de Van
der Pauw).
Nous avons utilisé la méthode des quatre pointes
alignées pour la mesure de l'épaisseur de nos
échantillons. Les quatre pointes conductrices (A B C D de gauche
à droite respectivement) et disposées en ligne droite de
méme espacement sont appliquées à l'échantillon
comme le montre la figure II.14 par simple pression (voir annexe). Un courant I
est injecté au point A. les équipotentielles sont des cylindres
de rayons r, et de hauteur e, avec une surface : S = 2 ð r e. les lignes de
courant sont parallèles à la surface entre deux cylindres
séparés d'une distance dr [6].
Ampère mètre
Surface équipotentielle V=cte
I
Ligne de courant
dr
Générateur de
tension
V
Échantillon
Figure II.16. a)Configuration des quatre
pointes alignées, b) Lignes de courant et
surfaces équipotentielles pour couche mince.
La résistance entre deux cylindres est donnée par
:
dR = ñ dr / (2 ð r e) (2.21)
Où ñ c'est la résistivité, e
l'épaisseur et r le rayon du cylindre équipotentielle.
La différence de potentielle (ddp) ainsi crée entre
les deux cylindres B et C est donnée selon la loi d'Ohm :
dV = I dR = I ñ dr / (2 ð r e) (2.22)
Entre les pointes B et C distantes de rAB
et rAC, on pourra calculer la chute de tension on
intégrant la relation II.19.
(2.23)
Dans le cas ou rAC = 2rAB l'équation 2.20 devient :
VBC = ñ I ln(2)/ (2 ð e) (2.24)
On déduit que la résistivité s'écrit
:
ñ = (e 2 ð /ln (2)) VBC/I (2.25)
en tenant en compte des effets d'interactions entre les lignes de
courants et de la forme géométrique de l'échantillon, la
résistivité ñ tiens compte du facteur de forme F(
a/d, d/s, e/s).
ñ = (e 2 ð /ln (2)) VBC/I F(a/d, d/s,
e/s) (2.26)
donc l'expression de la résistivité devient:
ñ = 4,53 e VBC/I F(a/d, d/s, e/s)
(2.27)
Dans l'approximation ou les couches minces sont
considérées comme des matériaux bidimensionnels dont
l'épaisseur l est suffisamment petite devant la distance entre les
pointes, l'expression (2.27) devient :
ñ = e Rsheet (2.28)
avec
Rsheet = VBC/I F(a/d, d/s, e/s) 4.53 (2.29)
F(a/d, d/s) F(a/d) et F(e/s) = 1 (2.30)
II.8 Banc d'essai et de mesure de la réponse du
capteur au gaz d'éthanol II.8.1 Gaz utilisé
Le choix de gaz à détecter dépend des
applications visées. Dans ce travail, nous avons utilisé le gaz
d'éthanol C2H5OH.
L'éthanol ou alcool éthylique est un alcool
possédant la structure semi-développée suivante :
CH3-CH2-OH. C'est un liquide incolore, miscible dans l'eau en toutes
proportions. Produit pour la première fois par fermentation de sucres
naturels, actuellement on le fabrique industriellement par hydratation de
l'éthylène.
L'éthanol est utilisé comme intermédiaire
de synthèse dans l'industrie chimique et comme solvant.
Présentement on l'utilise comme source d'énergie motrice
alternative aux hydrocarbures. S'agissant d'un produit volatile qui passe de
l'état liquide à l'état gazeux à température
ambiante, son large champ d'application touche tant les unités à
prévenir des risques que ceux relatifs au contrôle de
qualité alimentaire (station service, silos à grain, chambre
froide de stockage, etc....).
|