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Modélisation et simulation du bruit de fond dans le transistor MOS (Metaphoriser Semiconductor ) à  canal long

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par Abdoun SLIMANI
Université Hassiba Benbouali Chlef Algérie - Ingénieur d'état en électronique 2004
  

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²² .3 Etude dynamique du MOSFET:

Pour le modèle petits signaux du transistor MOS, on utilise une linéarisation des équations du transistor autour de son point de polarisation. Les éléments petits signaux peuvent s'exprimer par : Id = gm . Vg + gd .Vd où gm et gd sont respectivement la transconductance et conductance

du canal.

Le schéma électrique équivalent du MOSFET en régime dynamique des petits signaux est représenté sur la figure II-4. Il comporte outre, la transconductance gm et la conductance gd, les capacités parasites Cgs, Cgd et Cds, ainsi que les résistances des zones de drain (Rd), de source (Rs) et de la métallisation de grille (Rg).

Rg

Rd

Cgd

CgS

CdS

rdS

G

gm VgS

D

RS

S

Figure II-4: schéma équivalent du transistor MOS.

CHAPTRE II Structure et principe de fonctionnement du transistor MOS page :25

II .3.1 Calcul de la conductance et de la transconductance:

dId

La conductance est définie par : g = . Dans la région linéaire ( V d << V g - V T ) la

d

dV

d Vg

conductance est obtenue à partir de la relation (II .15):

ì eff ox

g ( g T )

d = W. . C V V

- (II.18)

L

dI

g m = d

[

dV

g V .

d

Elle dépend linéairement de la tension grille. On l'utilise sous la forme R ON = 1 gd : résistance à l'état ON .

La transconductance est définie par :

En régime linéaire, elle est donnée par :

W .ìeff.Cox

g m = .Vd (II .19)

L

En régime de saturation, elle est donnée par :

gm = W .ì eff.Cox

(Vg - VT) (II .20)

L

gm

( A V)

0.0015

0.001

5 .10 4

0

 
 
 

Vg = 2 . 5 V

Vg = 2 V

 
 
 
 

Vg = 1 . 5 V

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

0 2 4 6 8 10

Vd ( V)

Figure II-5: variation de gm en fonction de Vd

CHAPTRE ²² Structure et principe de fonctionnement du transistor MOS page :26

On remarque que gm et gd ont la même expression tant que QW peut être considérée constante.

La relation (²² .14) est valable jusqu'au pincement et le MOSFET idéal présente ensuite un courant Id constant (une résistance drain-source8).

Expérimentalement les MOSFET présentent une pente positive dans leurs caractéristiques I d ( Vd) au delà du pincement. Il existe donc une résistance drain-source dans la région de

saturation exprimée par la relation caractéristiques statiques.

dV d

r = obtenue en prenant la pente des

ds dI

g

d V

Cgs = 3 W·L· Cox

2 (II.21)

²² 3.2 Calcul des capacités:

Les capacités Cgs et Cgd existent respectivement entre la grille et la source, et entre la grille et le drain. La capacité totale sous la grille est fonction de la capacité d'oxyde par unité de surface Cox et des dimensions du transistor W et L ; elle est égale à W.L.Cox. La capacité Cgs est une capacité intrinsèque au fonctionnement du transistor dont la tension vgs à ses bornes permet de moduler la conductance du canal. En régime linéaire, les capacités Cgs et Cgd sont équitablement réparties et sont donc égales à 1/2 W.L.Cox. En régime saturé, le canal se pince au voisinage du drain. La tension de drain influe alors faiblement que ce soit sur la charge du canal ou de la grille. Par conséquent, la partie intrinsèque de Cgd est quasiment nulle en régime saturé. La capacité Cgd n'est alors représentée que par la capacité parasite constante due à la portion de grille chevauchant l'aire de drain. Cette capacité est donc nettement inférieure à la capacité Cgs en régime saturé.

La capacité Cgs en régime saturé s'écrit :

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