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Etude des transferts de chaleur dans une enceinte confinant un matériau à  changement de phase et chauffée par des sources de chaleur protubérantes sur une paroi conductrice verticale

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par Mustapha Faraji
Université Cadi Ayad Marrakech - Doctorat 2010
  

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3.3.3 Analyse des températures adimensionnelles à l'interface MCP liquide / Paroi chaude.

La Figure 3.3a illustre la distribution de la température adimensionnelle le long de la paroi chaude, constituée par les portions de la plaque conductrice (substrat) et les faces des sources de chaleur en contact avec le MCP, pour différents instants. L'analyse de cette figure montre que les courbes présentent des minimums aux points B, D, E, F, I, J et M et des maximums aux points C, G, H, K et L pour ô = 0,085. La présence des minimums est dû à la minceur des couches limites formées aux faces horizontales des sources de chaleur. Quant aux maximums, ils sont dus à l'épaississement des couches limites, formées sur les faces des sources de chaleur, aux points considérés. Un autre constat qui peut se dégager de l'analyse de cette figure est l'uniformité de la température à la surface des sources de chaleur et qui est attribuée à la valeur relativement élevée de la conductivité thermique du matériau constituant les sources de chaleur (Kc=1130).

0.045

0.035

0.025

0.015

0.005

0.04

0.03

0.02

0.01

0

0.00011 0.007 0.029 0.051 0.085 0.096 0.105

ô=

è

i

A B C D E F G H I J K L M N

(a)

ô

èi

0.035

0.025

0.015

0.005

0.03

0.02

0.01

0

È X

0 0.01 0.02 0.03 0.04 0.05 0.06 0.07 0.08 0.09 0.1

X È

È X

X

È

È

È

X È X È È X

X È

X X

s=

0.25 0.525 0.675 0.825 0.933 1.03 1.181 1.33 1.439 1.55 1.697 1.85 2.00

È

X

È

X

È

X

È

X

(b)

Figure 3.3: Distribution spatiale de la température adimensionnelle à l'interface paroi

chaude/MCP liquide (a) et variation temporelle des températures adimensionnelles à différentes positions de cette même interface (b)

La Figure 3.3b présente la variation temporelle de la température adimensionnelle pour différentes positions à l'interface paroi chaude /MCP. A cause du stockage d'énergie sous forme sensible, la température adimensionnelle s'accroît pendant les périodes correspondant au début et la fin du processus de fusion. On peut aussi constater que la température adimensionnelle est stabilisée durant le régime quasi stationnaire correspondant à l'établissement de la convection naturelle. L'accroissement et la stabilité de la température peuvent être aussi constatés à la Figure 3.3 a.

3.3.5 Analyse des nombres de Nusselt moyen des sources de chaleur.

L'évolution du nombre de Nusselt moyen d'une source de chaleur, Nu , est illustré à la Figure 3.4. Une des observations qui se dégagent de l'analyse de ces courbes est que le

nombre de Nusselt Nu n'est pas proportionnel au rapport

. En effet, l'analyse de

~ max

1

1

Omax

l'équation (2.58) montre que le nombre de Nusselt moyen Nu est le produit de

î ? î

o

et J ?ç

K d

0

. Ce dernier terme représente le flux thermique adimensionnel évacué par les trois

faces de la source de chaleur au MCP. Au début, la température maximale adimensionnelle et
le flux de chaleur adimensionnel évacué par la source de chaleur s'accroissent. Toutefois, le

rapport

1

Omax

l'emporte sur le flux de chaleur adimensionnel, si bien que le produit

1

î ? ~ î ? ~

, max J ?ç

?ç 0

0 ~ 0

max

et diminuent avec le temps, respectivement. Le même comportement est observé durant la
dernière phase. C'est la raison pour laquelle le nombre de Nusselt diminue. Durant le régime

quasi stationnaire, °max et 0 î ? î

°

J ?ç demeurent constants, entraînant, ainsi, la constance du

K d

nombre de Nusselt. L'évolution temporelle du nombre de Nuselt moyen des sources de chaleur reflète fidèlement les étapes du processus de fusion observées et analysées dans les sections précédentes (conduction pure - convection- conduction/convection).

300

Nu1

Nu2

Nu3

100

50

0 0.01 0.02 0.03 0.04 0.05 0.06 0.07 0.08 0.09 0.1 0.11 0.12

250

0

200

Nu

150

ô

Figure 3.4: Evolution temporelle des nombres de Nusselt moyen, (1): source située en bas de l'enceinte, (2): source centrale, (3): source située en haut de la cavité.

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